Шаг к технологической независимости: в России рассчитывают запустить литограф для чипов 130 нм уже в 2027 году

Россия планирует сделать очередной шаг в развитии собственной микроэлектроники. Как сообщил вице-премьер РФ Денис Мантуров, уже в 2027 году в стране может появиться отечественная литографическая установка, предназначенная для выпуска микросхем по техпроцессу 130 нм.

По словам чиновника, в 2025 году российские специалисты уже создали литограф на 350 нм, а следующим этапом станет переход к более современному уровню производства. Особый акцент делается на том, что речь идет о собственном оборудовании, разработанном без зависимости от зарубежных поставщиков.

На фоне ограниченного доступа к иностранным технологиям такой проект выглядит одним из наиболее важных для всей отечественной микроэлектронной отрасли. Литографические системы считаются ключевым элементом производства полупроводников, а их разработка требует огромных финансовых и инженерных ресурсов. Именно поэтому подобные проекты сегодня реализуют лишь несколько стран мира.

При этом не стоит воспринимать техпроцесс 130 нм через призму современных потребительских процессоров. Хотя подобные нормы действительно использовались в массовых чипах Intel и AMD начала 2000-х годов, они до сих пор востребованы в промышленной электронике, телекоммуникационном оборудовании, автомобильных системах и средствах автоматизации, где надежность и стабильность зачастую важнее максимальной производительности.

Как отметил Денис Мантуров, в дальнейшем Россия намерена двигаться к более тонким техпроцессам, однако этот путь потребует времени. Тем не менее сам факт появления собственного литографа на 130 нм может стать важной вехой для отрасли и показать, что ставка на развитие национальной элементной базы постепенно начинает приносить практические результаты.